关于征集中国知识产权高层论坛会标的通知

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热度48票  浏览13次 【共0条评论】【我要评论 时间:2010年1月30日 13:05
 中国知识产权高层论坛 由国家知识产权局与相关部委联合主办,邀请国家领导人、部委领导、国内外著名企业领导、驻华使官等出席论坛并演讲,是我国宣传知识产权保护的重要平台,也是我国知识产权领域的高规格论坛。论坛的宗旨是交流知识产权发展动态,探讨知识产权对经济社会发展的作用,推进国家知识产权战略的实施。 
    2010年中国知识产权高层论坛将于4月20日在北京举行。为了扩大论坛的影响和宣传,面向全社会 征集 中国知识产权高层论坛会标,有关事项通知如下:  
    一、会标题目  
    中文:中国知识产权高层论坛  
    英文:CHINA HIGH-LEVEL FORUM ON INTELLECTUAL PROPERTY ,缩写:CHFIP。  
    二、 征集 对象  
    面向社会 征集 ,以单位或个人名义不限。  
    三、创作要求   
    1.作品要主题突出,具有鲜明的象征意义,要紧扣"知识产权、高层、论坛",特别要突出“高层”和“知识产权”两个含义,充分体现知识经济下知识产权在经济社会发展中的重要作用,体现知识产权迅猛发展的时代特点。   
    2.作品要内涵丰富、创意出色、构图新颖、富有美感,具有艺术感染力和视觉冲击力;适合平面宣传的各种用途。  
    3.作品的风格、形式不限,但必须是原创,此前未以任何形式发表。应考虑在各种载体和环境中制作运用,并能以不同的比例尺寸清晰显示。  
    4.作品应采用彩色图形设计,可以与中英文字母相结合,具有一定的构成规则。另外,作品应配一定的文字说明,并注明标准色。   
    四、 征集 时间  
    应征作品截止日期为3月20日(以电子邮件发送日期为准),评审结果将于4月中旬对外发布。   
    五、提交方式   
    提交报名表(详见附件1)和应征作品电子件。应征作品为A4规格,JPG格式,分辨率大小为300dpi以上,文件大小10M以内。报名表和作品请发到指定邮箱   sipodesign@163.com   ,并请在文件名中注明投稿人姓名。  
    六、奖项设置  
    国家知识产权局保护协调司组织相关专家组成评审委员会,对所有应征作品进行评审,评出5份入围作品、1份中标作品,颁发证书及奖金,入围作品奖金200元,中标作品奖金5000元。  
    七、有关事项   
    1. 本次 活动 免收报名费,应征作品均不退还,请作者自留底稿。  
    2.应征作品不得违反国家法律,不得含有悖于社会道德风尚的内容。应征作品要求原创,不得侵犯第三方的知识产权,一旦发现有涉嫌侵权行为,立即取消作者应征资格。   
    3.国家知识产权局享有入围和中标作品除署名权外的全部权利,未经允许,不得擅自使用。  
    4. 征集  活动 由国家知识产权局保护协调司主办,外观设计审查部承办。  
    附件1:应征作品报名表  
     
  国家知识产权局保护协调司  
  二○一○年一月一十四日 
                                      
  
 联 系 人:沈德钰      高翔  
  联系电话:62087113    62087128  
  电子邮箱:sipodesign@163.com  
  通信地址: 北京市海淀区知春路1号学院国际大厦1909室转沈德钰  
  邮政编码:100191 
 
   http://www.sipo.gov.cn/sipo2008/tz/qt/201001/t20100121_488355.html 
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